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商品编号:62133
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脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80

价    格:询价

产    地:美国更新时间:2020/5/25 10:22:09

品    牌:Neocera型    号:Pioneer240,180, 120,80

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北京正通远恒科技有限公司

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等     级: (第 9年)

性     质:生产型,服务型,

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脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 主要特点:

*PLD概念清晰易懂:激光束使靶子表面蒸发,生产出与靶子同样化学组成的膜。
*PLD应用广泛:很多材料在多样的气体环境和很宽的气体压力范围内都可以镀膜。
*PLD节省成本:一束激光能够供多个真空系统使用。
*PLD高效率:在10至15分钟,可生长高质量的样品。
*PLD可升级:当需要大批量生产复合氧化物膜时,Neocera公司将证明PLD作为生产工具的价值。


PLD 是一种复杂材料沉积的有效方法
脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition)是一种用途广泛的薄膜沉积大发3d。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的独特之处是能量源(脉冲激光)位于真空室的外面。这样,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度,可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。另外,PLD 是一种“ 数字” 大发3d,在纳米尺度上进行工艺控制(?/pulse)。

? Neocera 在PLD 大发3d与工艺开发方面具有不可超越的经验

? Pioneer 系列PLD 系统是全球研发领域最为广泛使用的商业化系统

? Neocera 不仅为客户提供最基本的PLD 系统,也提供完整的PLD 实验室交钥匙方案




产品参数

脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 大发3d参数:

型号

Pioneer240

Pioneer180

Pioneer120

Pioneer80

最大wafer直径

8”

6”

2”

1”

最大靶材数量

6个1” 或4个2”

6个1” 或4个2”

6个1” 或3个2”

4个1”

压力(Torr)

<10-8

<10-8

<10-8

<10-8

真空室直径

24”

18”

12”  

8”

基片加热器

8”,旋转

6”,旋转

3”, 旋转

2”,旋转

最高样品温度

850 ° C

850 ° C

950 ° C

950 ° C

Turbo泵抽速
(liters/sec)

800

260

260

70

计算机控制

包括

包括

包括

包括

基片旋转

包括

包括

-

-

基片预真空室

包括

选件

选件

-

扫描激光束系统

包括

选件

-

-

靶预真空室

包括

-

-

-

IBAD离子束辅助沉积

选件

选件

选件

-

CCS连续组成扩展

选件

选件

-

-

高压RHEED

选件

-

-

-

520 liters/sec泵

a/n

选件

-

-



产品介绍

脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 — 基于卓越经验的创新设计
Neocera 利用PLD 开展了深入广泛的研究,建立了获得最佳薄膜质量的临界参数,特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。
这些思考已经应用于Pioneer 系统的设计之中。
很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压(>100 Torr)下冷却可获得更高的质量。所有Pioneer 系统都具备此功能(压力范围可从额定初始压强到大气压)。这也有益于纳米粒子的生成。
Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°,保持了激光密度在靶材上的最大均匀性,同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。更大的入射角能够拉长靶材上的激光斑点,导致密度均匀性的损失。
为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵,消除油的回流对薄膜质量的影响,所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油泵系统。
我们的研究表明靶和基片的距离是获得最佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统可以控制靶材和基片的距离,以达到最优的沉积条件。



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