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商品编号:49245
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脉冲等离子体沉积(PPD)大发3d和有机分子束沉积(OMBD)大发3d

价    格:询价

产    地:意大利更新时间:2019/7/15 13:41:34

品    牌:Organic Spintronics型    号:

状    态:正常点击量:6014

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仕嘉科技发展有限公司

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等     级: (第 13年)

性     质:生产型,

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意大利Organic Spintronics 公司建立于2003 年。Organic Spintronics 公司与意大利国家研究委员会(CNR)特别是与委员会博洛尼亚分部的纳米材料研究所(I.S.M.N.)在以下方面密切合作:
       • 自旋电子材料和过程
       • 创新薄膜沉积大发3d的发展
       • 有机薄膜处理和诊断的发展
公司致力于发展商业大发3d来发展创新的基于有机半导体的自旋电子存储器和逻辑元件和通过自旋极化注射来改进OLED 显示器的效率。
  
脉冲等离子体沉积大发3d介绍:
Organic Spintronics公司与意大利国家研究委员会纳米材料研究所实验室合作致力于提高包括SiC、单臂纳米管、复杂光涂层、有机薄膜的沉积过程。脉冲等离子体沉积(
Pulsed Plasma Deposition,PPD)作为PVD(物理气相沉积)大发3d的一个选择,可生长多种复合材料的高质量薄膜。PPD也叫渠道火花烧蚀法(Channel Spark Ablation,CSA,或者脉冲电子束沉积(Pulsed Electron DepositionPED,它是利用中空阴极管中的长管(通道)产生脉冲等离子体的毫微秒脉冲轰击消融旋转的靶材,原料蒸气沉积在合适的加热衬底上(最大1000 °C)形成薄膜。脉冲等离子体沉积在靶材表面产生高能量密度(500 MW/cm2)而不依赖于光学吸收。
脉冲等离子体沉积可沉积传统大发3d不能制备的材料的高质量薄膜。使用高能量效率使绝缘体的沉积速率从
10-3到5nm/s,通常可在超过1”衬底上沉积薄膜。这套系统结构简单耐用,比起脉冲
激光沉积来说,在安装和运营成本方面非常便利,能量消耗特别低。系统的潜力在以下方面还具有可测量性:
            • 用于生产异质多层膜的多靶构造
            • 大面积应用方面的复合源

          脉冲等离子体沉积的应用
                       •
高温超导薄膜(如YBCO等)
                       •
巨磁阻的铁磁薄膜(如LSMO等)
                       •
金属
                       •
半导体
                       •
高非导电绝缘体
                       •
过渡层
                       •
硬质涂层
                       •
透明导电氧化物薄膜(如TCO等)                      

                       • 超高温材料
                       •
聚四氟乙烯

          

有机分子束沉积(OMBD) 大发3d和有机克努森(Organic Knudsen Cell):

自旋电子学是信息通过载流子自旋传输的一门新学科。由于有机半导体的散射速率比无机半导体的要小几个数量级,因此特别适合于自旋极化的传输。目前有机电子学是自旋电子学的一个新的领域,其中的自旋器件由有机半导体和磁性金属组成,用OMBD制备的有机半导体和磁性金属的结合可实现低散射速率和室温操作。公司提供生长有机薄膜的元件有高真空和超高真空有机克努森池,专利的加热元件经过优化产生极均匀和恒定的分子流量,对外部周围环境具有低的热传导;对温度梯度断面得仔细设计排除了有机物在出口孔处的凝结;三层钽加热屏提供了非常有效的热屏蔽。

有机分子束沉积应用领域:

有机半导体,OLED,有机绝缘体,磁传感器, 非易失性存储元件,逻辑自旋器件(自旋场效应晶体管)





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